我在1949摆地摊 - 第270章 考察团(七)

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    粟记事,将方叶话给记了来,笔尖刷过纸张发哗哗声,,便抬起:“半导红外光制造外国何?”方叶:“就搞来,里还有一技术需解决。”

    “技术?”粟连忙

    “集成电路。”方叶:“老式电无法发挥锗半导红外光,集成电路方案,目前方面,领先国—丢丢,话,来。”

    “制约集成电路发展关键?”“硅晶”、“硅工业!”方叶

    粟议桌沉沉一拍,沉声:“集成电路须加。”

    赵:“参谋志,目前硅厂正建设,产,并制造来,估计底或者57。”

    “唉~一步,步步。”粟微微叹了,次华昌考察收获,哪便国防科技发展悟,此刻其实焦急,国外科技断涌现,各项事业虽然取得了步,数领域研究,乎都状态,怎急呢。

    方叶见粟此,便:“志,您急,,就led锗半导研制就国外快,集成电路也硅单晶,其实华昌研究院也搞。”

    “有搞?”粟目一睁,顿惊喜。方叶:“53,华昌研究院,搞来了硅单晶炉,现研究单晶成工艺,就解决批量制造题,搞一些研究用途单晶还。”

    “设备研究院里吗?”“,就。”方叶回。“。”粟急切

    ,随即了楼,又次来了研究院里,半导研究所里,一台式单晶炉赫然立里,研究员调整研究方,单晶研究品,则摆品柜里,成型。

    方叶介绍:“硅单晶成硅,将硅切成硅圆片,间有许工艺难题需克服,切片、打磨、清洗、蚀刻等等。”

    方叶继续解:“切片目前方案机械切割,和机求极,其表面平整度微差控制微米级,切割机械目前全世界都没有,需研制,打磨,由硅单晶片脆弱,稍加外力即破碎,因此打磨工艺复杂。”

    “首先需一块极平整托盘,将硅晶片放置面,其细度刚石混合打磨,第一步,面还腐蚀,将表面打磨细纹理掉,工艺,表面度控制5微米就峰了。”


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